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區第二工(gōng)業區24棟A區
塑料成型工(gōng)藝中描述的拋光與(yǔ)其他(tā)行業所需的表麵拋光有很大不同,嚴(yán)格來說(shuō),模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光
本身有(yǒu)很高的要求,而(ér)且對表麵平整度、的平滑度和幾何精度也有(yǒu)很高(gāo)的標準。表麵拋光通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標準
分為四個級別。
對於電解拋光、流體拋光的過程中,它(tā)是難以準確地控製(zhì)各部分(fèn)的(de)幾何(hé)精度,由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是必需的,精(jīng)密模具主要(yào)是基於機(jī)械拋(pāo)光。 。
1、半精細(xì)拋光主要使用砂紙實驗室和煤油協會。
2、精密拋光主要製作金剛石膏。通常的磨削,以除去(qù)為9um(#1800)-6um(#3000)-um是在殼體#1200和砂紙(8000)的#1500離開頭發的痕跡,拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用(yòng)方向盤。然後使用1μm(#14000)至1 /2μ
m(60000)至1 /4μm(#100000)量級的氈和金剛石(shí)漿料進行拋光。要求(qiú)精度為1微米(mǐ)或更大(包括1微米)的(de)拋(pāo)光工藝
必須是絕對清(qīng)潔的空間,用於拋(pāo)光模具。灰塵、煙霧,頭皮屑和唾液可能具有高精度拋光表麵,可在工作數小時(shí)後獲得。
3、為(wéi)了獲得機械拋光的基本程(chéng)序,高質量的拋光效果(guǒ),最重要的是要有高質量的拋光工具和砂紙和研磨膏等(děng)配件。最重要的是一個複雜的工作環境,需(xū)要一個潔淨室。拋(pāo)光程(chéng)序的選擇取決於先前加工的(de)表麵狀況,例(lì)如、 EDM加工,磨削(xuē)。
4、機械拋(pāo)光的一(yī)般過程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之(zhī)後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的(de)旋(xuán)轉表麵研磨機或超聲波粉碎(suì)機旋轉。常見的方法是使用直徑為3 mm、 WA#400的輪子去除白色(sè)火花層。然後手動油石磨,金剛石
砂岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序是#180 - #240 - #400 - #600 - #1000。
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