隨著塑料製品日溢廣泛（fàn）的應（yīng）用，如日化用品和飲料包裝容器等，外（wài）觀的需要往往要求塑料模具型腔的表麵（miàn）達到鏡（jìng）麵拋光的程度（dù）。而生（shēng）產光學鏡片、鐳射唱片等模具對表麵粗糙度要求極高，因而對拋光性的（de）要求也極高。

拋（pāo）光不僅增加工件的美觀，而（ér）且能夠改善材料表麵的（de）耐腐（fǔ）蝕性、耐磨性（xìng），還可以使模具擁有（yǒu）其它優點，如使塑料製品易於（yú）脫模（mó），減少生產注塑周（zhōu）期等。因而拋光在塑料模具製（zhì）作過程中是很重要的一道工序（xù）。

目前常用的拋光方（fāng）法有以下幾種：

1.1 機械拋光

機械（xiè）拋光是*切削、材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得（dé）到平滑麵的拋光方法（fǎ），一般使用油（yóu）石條、羊毛輪、砂紙等，以手（shǒu）工操作為主，特殊零件如回轉體表麵，可（kě）使用轉台等輔助工具，表麵質（zhì）量 要求高的可（kě）采（cǎi）用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特製的磨具（jù），在含有磨料（liào）的研拋液中，緊壓在工件被加工表麵上，作高（gāo）速（sù）旋轉運（yùn）動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。

1.2 化學拋（pāo）光

化（huà）學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀（guān）凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑麵。這種方法（fǎ）的主要優點是不（bú）需複雜設備，可以拋光形（xíng）狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光（guāng）的核心問題是拋光（guāng）液的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數10μm。

1.3 電解（jiě）拋光

電解拋光基本原理與化學拋光相同，即*選擇（zé）性的溶解材料表麵微小凸出部（bù）分，使表（biǎo）麵光滑。與化學（xué）拋光（guāng）相比，可以消（xiāo）除陰極反應的影響，效果較好。電化學拋光過程（chéng）分為兩步：

（1）宏觀整平 溶解（jiě）產物向（xiàng）電解液（yè）中擴散，材料表（biǎo）麵幾何粗糙下降，Ra＞1μm。

（2）微光平整 陽極極化（huà），表麵光亮度（dù）提高，Ra＜1μm。

1.4 超聲波拋光

將工件放入（rù）磨料懸浮液中並一起置於超聲波場中，依*超聲波的振（zhèn）蕩作用，使（shǐ）磨料在工件表（biǎo）麵磨（mó）削（xuē）拋（pāo）光。超聲波加工（gōng）宏觀力（lì）小，不會引起工件變形，但工裝製（zhì）作和安裝較困難。超聲波加工可（kě）以與化學或電（diàn）化學（xué）方法結合。在溶液腐蝕（shí）、電解的（de）基礎上（shàng），再施加超聲（shēng）波振（zhèn）動攪拌溶液，使（shǐ）工件（jiàn）表麵溶解產（chǎn）物脫離，表（biǎo）麵附近的腐蝕或電（diàn）解（jiě）質均勻；超聲波在液體中（zhōng）的空化作用還能夠抑製腐蝕過程，利於表麵光亮化

1.5 流體拋光

流體拋光是依*高（gāo）速流動的液體及其攜（xié）帶的磨粒衝刷工件表麵達（dá）到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴（pēn）射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使（shǐ）攜帶磨粒的液體介質高速往複流過工件表麵（miàn）。介質主要采用在較低壓力（lì）下（xià）流過性好的特殊化（huà）合物（聚合物狀物質）並摻上磨料製成，磨料可采用碳化矽粉末。

1.6 磁研磨拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在（zài）磁場作用（yòng）下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法（fǎ）加工效率高，質量（liàng）好，加工條件容易控製，工作條件好。采用合適的磨料，表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。

在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中（zhōng）所（suǒ）要求的表麵拋光（guāng）有很大的不同，嚴格來說，模具的拋光（guāng）應（yīng）該稱為鏡麵加工。它不僅對拋光本身有很高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及幾何精確度（dù）也（yě）有很高的標準。表麵拋光一般隻要求獲得光亮的表（biǎo）麵即可。

鏡麵加（jiā）工的標準分為四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光、流體拋光等方法很難精確控製零件的幾何精確度，而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的（de）表麵質量又達不到要求，所（suǒ）以精密模具的鏡麵加工還是以機械拋光為主。

機械拋光基本程序

要想獲得（dé）高質量的拋光效果，最重要的是要具備有高質量的油石、砂紙和鑽石研磨膏等（děng）拋光工具和輔助品。而拋光程序的選擇取決於前期（qī）加（jiā）工後的表（biǎo）麵狀況，如機械加工、電（diàn）火花加工，磨加工等等。機械拋光的一般過程如下：

1、粗拋

經銑、電火花、磨等工藝後的（de）表麵可以選擇（zé）轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表（biǎo）麵拋光機（jī）或超聲（shēng）波研磨機進行拋光。常用的方法（fǎ）有利（lì）用直（zhí）徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火花層。然後是手工油石研磨（mó），條（tiáo）狀（zhuàng）油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑（jì）。一般的使用順序為（wéi）#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了節（jiē）約時間（jiān）而選擇從#400開始。

2、半精拋（pāo）

半精拋主要使（shǐ）用砂紙和煤油。砂紙（zhǐ）的（de）號數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙隻用適於淬硬的模具鋼（52HRC以上），而不適用於預硬鋼（gāng），因為這樣可能會導致預硬鋼件表麵燒傷（shāng）。

3、精拋

精拋主（zhǔ）要使用（yòng）鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉或研磨膏進行研磨的話，則通常的研磨順序是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研（yán）磨膏和拋光布輪可用來去除#1200和#1500號（hào）砂紙留下的（de）發（fā）狀磨痕。接著用粘氈和鑽石研磨膏進行拋光，順序（xù）為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要求在1μm以上（包括1μm）的拋光工藝在模具加工車間中一個清（qīng）潔的拋光室內即可進行。若進（jìn）行更加精密的拋光則必需一個絕（jué）對潔淨的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑和口水沫都有可能報廢數個小時工作後得到的高精密拋光（guāng）表麵。

機械（xiè）拋（pāo）光中（zhōng）要注意的問題

用砂紙拋光應注（zhù）意以下幾點：

1、用（yòng）砂紙拋光需要利用軟的木棒或竹棒。在（zài）拋光圓麵或球麵時，使用軟木棒可更好的配合圓麵和球麵的弧度。而較硬的（de）木條（tiáo）像櫻桃木，則更適用於平整表（biǎo）麵的拋光。修整木條的末端（duān）使（shǐ）其能與鋼（gāng）件表麵形狀保持吻合，這樣可以避免（miǎn）木條（或竹條）的銳角接觸鋼件表麵而造成較深的劃痕。

2、當（dāng）換用不同型（xíng）號的砂紙時，拋光方向應變換（huàn）45°~ 90°，這樣前一種型號砂紙拋光後留下的條紋陰影即可分辨出來。在換不同型號砂紙（zhǐ）之前，必須用100％純棉花沾（zhān）取酒精之類的清潔（jié）液對拋光表麵進行仔（zǎi）細的擦拭，因為一顆（kē）很小的沙礫留在表麵都會毀壞接下去的整個拋光工作。從砂紙拋光換成鑽石研磨膏拋光（guāng）時，這（zhè）個清潔過程同樣重要（yào）。在（zài）拋光繼續進行之前（qián），所有顆粒和煤（méi）油（yóu）都必須被完全（quán）清潔（jié）幹淨。

3、為了避免擦傷和燒（shāo）傷工件表麵，在用（yòng）#1200和#1500砂紙進行拋光時必須特別小心。因而有必要加載一（yī）個輕載荷以及采用兩步拋光法對表麵（miàn）進行（háng）拋光。用每（měi）一種型號（hào）的砂紙進行拋光時都應沿兩個不同方向進行（háng）兩次拋（pāo）光，兩個（gè）方向之間每次轉動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光應注意以下幾點：

1、這種拋光必須盡量在較輕的壓力下進行特別（bié）是拋光預硬鋼件和用細研磨膏拋光時。在（zài）用#8000研磨膏拋光時（shí），常用載荷（hé）為100~200g/cm2，但要保持此載荷的精準度很難做到。

為了更容易做到這一點，可以在木條上做一個薄且窄（zhǎi）的（de）手柄，比如加一銅片；或者在竹條上切去一部分而使其更加柔軟。這樣可以幫助（zhù）控製拋光壓力，以確保模具表麵（miàn）壓力不會過（guò）高。

2、當使用鑽石研磨拋光時，不（bú）僅是工作表麵要求潔淨，工作者（zhě）的（de）雙手也必須仔細清潔。

3、每（měi）次拋光時間不應過長，時間越（yuè）短，效果越好。如果拋光過程進行得過長將會造（zào）成“橘皮”和“點蝕”。

4、為獲得高質（zhì）量的拋（pāo）光效果，容易發熱的拋光方法和工具都應避免。比如：拋光輪拋光，拋光輪產生的熱（rè）量會很容易造成“橘皮”。

5、當（dāng）拋光過程（chéng）停止時，保證工（gōng）件表麵潔淨和仔細去除（chú）所有研磨劑和潤滑劑非常重要，隨後應在表麵噴淋一層模（mó）具防鏽塗層。

由（yóu）於機械拋光主要還是（shì）*人工完成，所以拋光（guāng）技術目前還是（shì）影（yǐng）響拋光質量的（de）主要原因。除此之外，還與模具材料、拋光前的（de）表麵狀況、熱處理工藝等有關。優質的鋼材是（shì）獲得良好拋光質量的前（qián）提（tí）條件，如果鋼材表麵硬度不均或（huò）特性上有差異，往往會產生拋光（guāng）困難。鋼材（cái）中的各種夾雜物和氣孔都不利於拋光。

不同硬度對拋光工藝的影響

硬度增高使研磨的困難（nán）增大，但拋光後的粗糙度減（jiǎn）小。由於硬度的增高，要達到較低的粗糙度所需的拋光時間相應（yīng）增長。同時硬度增高，拋（pāo）光過度的可能性相應減少。

工件表麵狀況對拋光工藝的（de）影響

鋼材（cái）在切削機械加工的破碎過程中，表層（céng）會因熱量、內應力或其（qí）他因素而損（sǔn）壞（huài），切削參數不當會影響（xiǎng）拋光效（xiào）果。電火花加工後的（de）表麵比普通機械（xiè）加工或熱處理（lǐ）後的表麵更難研磨，因此電火花加（jiā）工結束前應采用精規準電火花修整，否則表麵（miàn）會形成硬化薄層。

如果電火花精修（xiū）規準選擇不當，熱影響層的深度最大可達0.4mm。硬化薄層的硬度比基體硬度高，必須去（qù）除。因此最好（hǎo）增加一道粗磨加工，徹底清除（chú）損壞表麵層，構成一（yī）片平均粗糙的金屬麵，為拋光加工提供一個良好基礎。

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